WD4000晶圓微納三維形貌量測系統兼容不同材質不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數據更準確。可實現砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、鈮酸鋰、藍寶石、硅、碳化硅、玻璃不同材質晶圓的量測。

WD4000晶圓細磨硅片粗糙度測量系統兼容不同材質不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數據更準確。它采用白光干涉測量技術對 Wafer 表面進行非接觸式掃描同時建立表面 3D 層析圖像，顯示 2D 剖面圖和 3D 立體彩色視圖，高效分析表面形貌、粗糙度及相關 3D 參數。

WD4000半導體晶圓厚度量測系統通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進行重建，在高效測量測同時有效防止晶圓產生劃痕缺陷。它自動測量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。

WD4000無圖晶圓粗糙度測量系統提供幾何輪廓分析、粗糙度分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能。其中粗糙度分析包括國際標準ISO4287 的線粗糙度、ISO25178 面粗糙度、ISO12781 平整度等全參數。

WD4000半導體晶圓表面幾何形貌檢測系統通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進行重建，強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度，TTV，BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產生劃痕缺陷。

WD4000晶圓厚度Wafer參數量測設備通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進行重建，強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度，TTV，BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產生劃痕缺陷?？杉嫒莶煌馁|不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數據更準確。